Rsuwei
RTD Wafer是使用特殊加工工艺 将测温传感器(RTD)镶嵌于晶圆表面特定位置,从而可实现晶圆表面温度实时测量的温度传感器。通过RTD Wafer可获得晶圆特定位置的真实温度测量值以及整体晶 圆的温度分布情况;也可用于持续 监控在热处理制程中晶圆瞬态温度变化。
光刻涂胶显影TRACK设备原子层沉积(ALD)探针台测温高精度加热盘
约35天
1.确定温度精度要求与尺寸2.确定真度要求3.确定点位数量与排布4.确定引出线长度